| Карточка | Таблица | RUSMARC | |
|
|
Поищенко, Карина Евгеньевна. Мониторинг холодильного оборудования на LoRaWAN: выпускная квалификационная работа по программе бакалавриата. Направление подготовки (специальность): 11.03.04 "Электроника и наноэлектроника". Направленность (профиль): "Электронные приборы и устройства" / К.Е. Поищенко; Уфимский университет науки и технологий (УУНиТ), Физико-технический институт, Кафедра инфокоммуникационных технологий и наноэлектроники ; научный руководитель В. Х. Абдрахманов. — Уфа, 2024. — 41 с. — <URL:https://elib.bashedu.ru/dl/diplom/2024/PoishenkoKE_11_03_04_ENE_bak_2024.pdf>. — Текст: электронныйДата создания записи: 11.07.2024 Тематика: ВКР; бакалавриат; холодильное оборудование; LoRaWAN; беспроводные технологии мониторинга; структура устройства; датчики Коллекции: Квалификационные работы бакалавров и специалистов; Общая коллекция Разрешенные действия: –
Действие 'Прочитать' будет доступно, если вы выполните вход в систему и будете работать на компьютерах в читальных залах Библиотеки
Группа: Анонимные пользователи Сеть: Интернет |
Права на использование объекта хранения
| Место доступа | Группа пользователей | Действие | ||||
|---|---|---|---|---|---|---|
| Локальная сеть Библиотеки | Аутентифицированные пользователи |
|
||||
| Локальная сеть Библиотеки | Все | |||||
| Интернет | Аутентифицированные пользователи |
|
||||
|
Интернет | Все |
Оглавление
- ВВЕДЕНИЕ
- 1. Описание устройства мониторинга холодильного оборудования на LoRaWAN для холодильных установок
- 1.1. Актуальность и преимущества разрабатываемого устройства
- 1.2. LoRaWAN технологии для удаленного мониторинга
- 1.2.1. Cуществующие проводные и беспроводные технологии мониторинга
- 1.3. Обзор существующих аналогов датчика на LoRaWAN.
- 2. Проектирование устройства
- 2.1. Выбор микроконтроллера
- 2.2. Учет реального времени
- 2.3. Питание устройства
- 2.4. Стабилизация напряжения
- 2.5. Выбор датчика
- 3. Экономическая часть
- ЗАКЛЮЧЕНИЕ
- СПИСОК ИСПОЛЬЗОВАННЫХ ИСТОЧНИКОВ И ЛИТЕРАТУРЫ
- Приложение 1. Верхний и нижний слои конечного устройства
- Приложение 2. 3D вид конечного устройства
Статистика использования
|
|
Количество обращений: 0
За последние 30 дней: 0 Подробная статистика |